真空管式炉

真空管式炉主要应用于半导体材料的扩散、氧化工艺；也可应用于玻璃对金属的封装焊接石英制品的热处理、LED发光粉体材料的煅烧等工艺。

     采用高纯石英管作为内炉膛，具有良好的洁净度；耐火、保温材料全部采用先进的轻质纤维制品，整机质量轻、能耗低；加热元件采用真空成型FEC陶瓷纤维加热器；温控系统采用进口多段智能程序温度控制仪控制，温度控制具有良好的稳定性、重复性，温度控制精度高

     最高温度可达1700度，其他参数按照用户提出系列要求来设计。